桌面型多功能等离子设备可在真空腔室内产生密集,均匀的等离子体

桌面型多功能等离子设备可在真空腔室内产生密集,均匀的等离子体

桌面型多功能等离子设备概要：

是针对研发、试产需求设计的桌面型多功能等离子处理系统。其紧凑可靠的设计可在真空腔室内产生密集、均匀的等离子体，适用于等离子表面处理、表面刻蚀以及其它多种工艺应用。

桌面型多功能等离子设备特点： 

·设计紧凑的桌面型等离子工艺平台，易于与厂务端连接

·可靠的腔体结构设计，确保工艺腔体具备一流的气密性与耐用性

·优秀的进气、排气设计，保证工艺过程的均匀性

·支持多种电极形式与最多4路工艺气体，适用于处理各种产品并适应多种工艺要求

·直观的图形控制界面，通过触屏可实时观察、控制工艺过程

·13.56MHz射频电源与自动匹配系统，具有优异的稳定性和可重复性

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